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返回1、按照磁瓦指标值指标值、生产效率和准确度等技术标准挑选 了摄像机、镜头等硬件配置;根据照明实验挑选 并设计适用磁瓦的光源照明模块中的光源和照明方法,在这个基础上建立了用来磁瓦图像收集的硬件系统。
2、对于生产过程中磁瓦内表面上比较常见的4种瑕疵种类:裂痕(包括深裂痕和浅裂痕)、崩烂、欠磨、压痕,运用平行的光线入射到物品表面上时会出现镜面反射和漫反射。反射光和散射光的强度关键在于物品表面上的粗糙度和瑕疵的状况。
因为瑕疵的出现,磁瓦表面上的粗糙度和反射平面法线大方向将产生变化,进而造成反射光和散射光强度的改变,且由表面上瑕疵造成的光强改变将超过由表面粗糙度差异所引起的光强改变。因为反射光和散射光中都包括有缺陷的信息按照反射光和散射光强度的改变判断出瑕疵的改变。
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